采用无振动的高性能马达和低噪声的减速器驱动晶体和坩埚上升,可提供稳定的低生长速度。6、设备的真空条件和在真空下的可控惰性气体气流使得热区清洗最化。氧化硅可以在不污染
晶体和晶体驱动装置的条件下排除。
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