静电吸盘的基本构造和原理(五)华奇密封件
1.晶片处理过程中,之所以需要把晶片牢牢地吸到吸盘表面,主要是增加晶片与吸盘之间的传热。此外,晶片背面与吸盘表面之间的氦气是传热的重要媒介。
2.在吸盘中,除了直流电极外,还有射频电极。射频电极用来提供晶片处理过程中需要的射频偏置功率。此外,吸盘中也需要冷却液的循环渠道和氦气的气道。其设计还是需要特别小心细致的。而且,它的设计受到别的方面的制约,如体积不能过大,否则会堵塞或降低反应腔的排气速度。
静电吸盘的基本构造和原理(三)华奇密封件
1. 在没有等离子体的情况下,如果关掉被接通到直流电极(镶嵌在吸盘的电介质中)的高压(低流)直流电源,假若分布在晶片背面的电荷与分布在吸盘上面的电荷都是极化电荷,则晶片就被释放了,即吸力自动消失。
2. 在没有等离子体的情况下,假若分布在晶片背面的电荷与分布在吸盘上面的电荷中有一部分是自由电荷, 即使关掉被接通到直流电极(镶嵌在吸盘的电介质中)的高压(低流)直流电源,则晶片也不会完全被释放,即因残留电荷而仍存在一定的静电吸力。这种情况下,通常需要用反向的静电压来强制消除残留电荷,然后才能释放晶片。