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真空镀膜设备中泵的使用、原理简介、存在问题、及解决方法:
成膜控制系统 薄膜监-控目前应用方式比较多,主要有:目视监-控法,定(极值)值监-控、水晶振荡监-控、时间监-控等等。本人主要介绍目视监-控、定(极值)监-控和水晶振荡监-控三种。 目视监-控也叫直接监-控,就是采用眼睛监-控,因为薄膜在生长的过程中,由于干涉现象会有颜色变化,我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的,此种方式有一定的误差,所以不是很准确,立式真空镀膜机,需要依靠经验。 定值(极值)监-控:主要是采用反射式(透过式)光学监-控。极值监-控法:当膜厚度增加的时候其反射率和穿透率会跟着起变化,当反射率或穿透率走到极值点的时候,就可以知道镀膜之光学厚度ND是监-控波长(入)的四分之一的整数倍。但是极值的方法误差比较大,因为当反射率或者透过率在极值附近变化很慢,亦就是膜厚ND增加很多,R/T才有变化。反映比较灵敏的位置在八分之一波长处
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真空镀膜设备使用、存在问题、及解决方法:
化学成分编辑
薄膜均匀性概念
1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,丽水市真空镀膜机,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,三门真空镀膜机,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,塑料件机壳真空镀膜机,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2.化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
3.晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,具体见下