溅射技术的成就之一是磁控溅射。由于在磁控溅射中引入了正交电磁场使离化率提高到5~6%。于是溅射速率比三级溅射提高10倍左右,对许多材料,溅射速率达到了电子束蒸发的水平。
控溅射具有“低温”、“高速”两大特点。
磁控溅射是以磁场来改变电子的运动方向,并束缚和延长电子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率和有效的利用了电子的能量。因此,是正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。
所以磁控溅射具有“低温”“高速”这两大特点。
针对工时利用率偏低的现状,磁控溅射厂家,真空设备制造企业应认真研究企业现行的生产组织方式,研究是否可以将顺序生产与交叉生产的方式进行有机地结合,磁控溅射,最终形成最适合本企业实际情况且富有效率的生产组织方式。同时,要认真研判员工的工时利用率问题,找出可改善的节点,改善人浮于事的状况,磁控溅射设备,科学地减少现场作业人员的等待时间,磁控溅射制造,采取激励措施提高员工的操作水平,合理地加快生产节奏。这样不但可以提高企业的整体劳动生产效率,增强员工劳动中的质量意识与责任意识,也可以让因为生产现场中人员的闲置所造成的一系列管理难题得到针对性的解决。