P C B 的 化 学 镍 钯 金 工 艺 是 在 化 学 沉 镍 金(ENIG)镀覆层中间加一层钯,满足一定厚度和表面状态的化学沉镍钯金镀覆层具有良好的锡焊性能和金丝键合性能,具有非常高的可靠性。但是,不同PCB生产厂家的不同工艺控制、组装工艺流程和不同的材料对金丝键合性能有不同的影响。
化学沉钯层结构致密,夹在镍和金之间,能够有效阻止镍向金扩散,钯层质量和厚度对金丝键合工艺的可靠性至关重要,厚度方面不宜太薄。资料表明,铝合金化学沉镍,ENEPIG金丝键合及可靠性试验后,钯层应完整,钯层厚度≥0.10 μm。金层本身具有良好的金丝键合能力,由于致密钯层的保护阻止了浸金工艺过程中金对镍层的攻击,苏州化学沉镍,金层纯度高,较薄的金层(≥0.05 μm)就能满足金丝键合需求,更厚的金层可保障金丝键合工艺的稳定性和可靠性。
工件电镀相信大家都不陌生,关于电镀也有很多不同的形式,今天汉铭表面处理要向大家介绍的就是化学沉镍。
关于化学沉镍,相信大家都很好奇它的工艺特点,那么就让汉铭来为大家解答。
厚度均匀和均镀能力好是化学沉镍的一大特点,也是应用广泛的原因之一,化学沉镍避免了电镀层由于电流分布不均匀而带来的厚度不均匀,电镀层的厚度在整个零件,尤其是形状复杂的零件上差异很大,在零件的边角和离阳极近的部位,镀层较厚,而在内表面或离阳极远的地方镀层很薄,甚至镀不到,采用化学镀可避免电镀的这一不足。化学镀时,只要零件表面和镀液接触,镀液中消耗的成份能及时得到补充,任何部位的镀层厚度都基本相同,即使凹槽、缝隙、盲孔也是如此。
并且化学沉镍不存在氢脆的问题,一般那电镀是利用电源能将镍阳离子转换成金属镍沉积到阳极上,用化学还原的方法是使镍阳离子还原成金属镍并沉积在基体金属表面上,试验表明,镀层中氢的夹入与化学还原反应无关,而与电镀条件有很大关系,通常镀层中的含氢量随电流密度的增加而上升。
我们都知道化学沉镍性能稳定,外表美观,那么化学沉镍还有哪些优点呢?
1.化学沉积NI-P合金镀层空隙少、致密、表面光洁。
2.化学沉镍不需要直流电源,被镀零件无导电触点。
3化学沉镍在盲孔、管件、深孔及缝隙的内表面可得到均匀镀层。
4.不需要一般电镀时所需的直流电机或整流设备,节能、无环境污染、不需要清水处理装置。
5.热处理温度低,在400℃以下经不同保温时间后,可得到不同硬度值。因此,化学沉镍厂家,它不存在热处理变形问题,特别适用于加工一些精密要求高、形状复杂、表面要求耐磨的零部件和工模具等。
3.化学沉镍无渗透性的限制,适用于大型、形状复杂的零部件和工模具的表面强化。例如:机械制造和汽车制造工业中的大型拉延模,由于渗透性限制,无法用热处理方法强化。在这种情况下可采用化学沉积NI-P合金层使其表面强化。