大型磁控溅射镀膜机-镀膜机-至成镀膜机

真空镀膜设备冷水机有什么作用？

真空冷水机广泛应用于工业制冷，它能提供恒流、恒温、恒压，控制真空电镀设备的温度，不同工艺流程需要控制不同的温度，真空电镀设备中冷水机可以分为风冷式的冷水机和水冷式的冷水机，水冷式冷水机达到好的冷却效果加冷却水塔，风冷式冷水机对工作环境有要求，它通过热风循环制冷，通风效果的好坏直接影响到冷水机的制冷效果。

冷水机应当具备水温调节控制能力，不受气温及环境影响；性能要稳定，保证长年连续运转情况下不出现故障；节能省电，有自我调节功能，有效节约电；噪音要低，应当有缺相、错相、电流过载、高低压保护系统。真空电镀设备配备冷水机是为了达到率、控制温度的目的以保证镀件的高质量，增加镀件的密度和平滑，缩短电镀周期，提高生产效率和改善产品的质量。

真空电镀设备专用的冷水机主要组成有：压缩机，贮液器，干燥过滤器，热力膨胀阀，蒸发器，制冷剂，冷凝器。压缩机是心脏，冷水机制冷系统通过压缩机输入电能，将热量冲低温环境排放到高温环境，制冷压缩机决定整个系统的效率。贮液器安装在冷凝器后面，于冷凝器的排液管直接连通，贮液器起到调剂和贮存制冷剂的作用。

真空镀膜技术的大概流程

真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，使固体表面具有优于材料本身的性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为具发展前途的重要技术之一，并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。

真空镀膜技术的大概工作流程是：首先对产品进行底涂，这样的话，会把产品表面细小的缺陷进行掩盖，也会增加金属膜和产品的附着力。随后进行真空镀膜，根据不同的产品和客户不同的要求来选择不同的金属进行蒸发，从而实现产品表面的金属效果。

最后进行uv喷涂，为的是保护金属膜，也为了使产品达到一些必要的检测要求。有的客户还会要求在镀膜之后和喷涂之前加入中途工艺，来实现完成增加颜色和达到更多外观要求的目的，还可以对产品表面光泽进行调整，把产品表面从镜面效果到亚光效果。

真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能

真空镀膜机电子束蒸发与磁控溅射镀铝性能分析研究，为了获得性能良好的半导体电极Al膜，我们通过优化工艺参数，制备了一系列性能优越的Al薄膜。通过理论计算和性能测试，分析比较了真空镀膜设备电子束蒸发与磁控溅射两种方法制备Al膜的特点。

严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。

采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。

附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久耐用的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗，清除了附着力不强的溅射原子，净化基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。