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真空镀膜技术的分类
主要分为湿式镀膜法和干式镀膜法。湿式镀膜法可分电镀法、化学镀法;干式镀膜法常称真空镀膜法、气相沉积-物相沉积(Physical Vapor Dep和osition﹨PVD)和化学气相沉积(Chemical Vapor Dep和sitionCVD)。
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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,LED灯反光杯镀膜加工,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
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