沉积TiO2—沉积二氧化钛—离子束沉积

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沉积TiO2—沉积二氧化钛—离子束沉积

采用钛金属靶材和氧气辅助的离子束沉积

低功率工艺： 沉积速率：大于8纳米/分钟
均匀性：在75mm厚的环面上公差小于± 0.5 %在8英寸衬底范围内公差小于± 3 %
高功率工艺:
沉积速率：大于12纳米/分钟
折射率： 2.468（632纳米）
均匀性：在75mm厚的环面上公差小于± 0.5 %
在8英寸衬底范围内公差小于± 3 %

(北京市沉积TiO2沉积二氧化钛离子束沉厂家)
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