溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材的成分与结构均匀性
为了保证溅射薄膜均匀,尤其在复杂的大面积镀膜应用方面,必须做到靶材成分与结构均匀性好,二硫化锡靶报价,这也是考察陶瓷靶材质量的重要指标之一。例如,二硫化锡靶,为了保证质量,要求ITO靶中In2O3, SnO2组成均匀,都为93:7或91:9(分子比)。特别是溅射靶材的微观结构均匀性对溅射时的成膜速率、沉积薄膜的质量及厚度分布等均有很大的影响。根据有关研究表明,细晶粒(<100μm)结构溅射靶材的成膜速率大于粗晶粒靶。因此,当陶瓷靶材在靶面尺寸上的晶粒分布不均匀时,将造成沉积薄膜厚度分布的不均匀现象。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
什么是金属靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
金属靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。有金属类、合金类、氧化物类等等。钨-钛(W-Ti)膜以及以钨-钛(W-Ti)为基的合金膜是高温合金膜,具有一系列不可替代的优良性能。钨具有高熔点、高强度和低的热膨胀系数等性能,W/ Ti 合金具有低的电阻系数、良好的热稳定性能。如各种器件都需要起到导电作用的金属布线,例如Al 、Cu 和Ag 等已经被广泛的应用和研究。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶中毒的物理解释
一般情况下,金属化合物的二次电子发射系数比金属的高,靶中毒后,靶材表面都是金属化合物,在受到离子轰击之后,二硫化锡靶厂,释放的二次电子数量增加,二硫化锡靶供应商,提高了空间的导通能力,降低了等离子体阻抗,导致溅射电压降低。从而降低了溅射速率。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400v-600v之间,当发生靶中毒时,溅射电压会显著降低。