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科技部发布新材料技术超高纯铝靶材项目申请

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

科技部发布新材料技能超高纯铝靶材项目请求

据科技部音讯：物理汽相堆积(PVD)是半导体芯片和TFT-LCD生产进程中最关键的技能之一，PVD用溅射金属靶材是半导体芯片生产及TFT-LCD制备加工进程中最重要的原材料之一，溅射金属靶材中用量很大的是超高纯铝和超高纯洁铝合金靶材。

由此可见，研制具有自主知识产权的大尺度超高纯铝靶材的制造关键技能，开宣布满意半导体职业及TFT-LCD工业需要的超高纯铝靶材商品，二硫化锡靶批发价格，关于中国有关工业的展开具有重要意义。

为公平、公平、公开地挑选项目承担单位，充分调动有关企业、科研院所及高等院校的积极性，集成全国在铝的精炼提纯、大尺度铝板形变加工及溅射金属靶材专业制备等范畴的优势研制力量展开本项意图作业，科技部发布了《国家高技能研讨展开方案(863方案)新材料技能范畴“大尺度超高纯铝靶材的制造技能”重点项目请求指南》。

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减反射膜

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

原理

减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同，波长相同的光波叠加，那么光波的振幅增强；如果二个光波原由相同，波程相差，如果这二个光波叠加，二硫化锡靶，那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理，在镜片的表面镀上减反射膜，使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰，从而抵消了反射光，达到减反射的效果。

1）振幅条件

膜层材料的折射率必须等于镜片片基材料折射率的平方根。

2）位相条件

膜层厚度应为基准光的1/4波长。d=λ/4 λ=555nm时，d=555/4=139nm

对于减反射膜层，许多眼镜片生产商采用人眼敏感度较高的光波（波长为555nm)。当镀膜的厚度过薄（〈139nm)，二硫化锡靶厂，反射光会显出浅棕黄色，如果呈蓝色则表示镀膜的厚度过厚（ 〉139nm）。

镀膜反射膜层的目的是要减少光线的反射，但并不可能做到没有反射光线。镜片的表面也总会有残留的颜色，但残留颜色哪种是好的，其实并没有标准，二硫化锡靶厂家，目前主要是以个人对颜色的喜好为主，较多为绿色的色系。

我们也会发现残留颜色在镜片凸面与凹面的曲率不同也使镀膜的速度不同，因此在镜片中央部分呈绿色，而在边缘部分则为淡紫红色或其它颜色。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材的成分与结构均匀性

为了保证溅射薄膜均匀，尤其在复杂的大面积镀膜应用方面，必须做到靶材成分与结构均匀性好，这也是考察陶瓷靶材质量的重要指标之一。例如，为了保证质量，要求ITO靶中In2O3， SnO2组成均匀，都为93：7或91：9(分子比)。特别是溅射靶材的微观结构均匀性对溅射时的成膜速率、沉积薄膜的质量及厚度分布等均有很大的影响。根据有关研究表明，细晶粒（<100μm）结构溅射靶材的成膜速率大于粗晶粒靶。因此，当陶瓷靶材在靶面尺寸上的晶粒分布不均匀时，将造成沉积薄膜厚度分布的不均匀现象。

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