供应供应CMP抛光液
一．应用领域
用于单晶硅、多晶硅、蓝宝石、液晶玻璃、镜头等抛光。
二．产品特点
1．采用严格的粒径控制工艺，具有纯度高、粒径均匀、易清洗、无橘皮、无雾化现象、抛光速率高、损伤层小等优点。
2．可直接稀释使用，对抛光设备无腐蚀。
三．性能指标
| 指标名称 | 型号及标准 | ||||
| CMP30 | CMP50 | CMP80 | CMP100 | CMP150 | |
| 粒径（nm） | 20-40 | 40-60 | 60-90 | 100-130 | 140-170 |
| 外观 | 乳白 | ||||
| SiO2含量(重量) | 30~40% | ||||
| 分散介质 | 水 | ||||
| pH值 | 2-11可调 | ||||
| 保质期（月） | ≥12 | ||||
四．使用方法
1．可根据抛光操作条件用去离子水进行稀释。
2．稀释后，粗抛时调节pＨ至11左右，精抛时调节pH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。
3．循环抛光可以用原液。
五．包装及储存
1．采用聚乙烯塑料桶包装，主要包装规格有25Kg、250Kg。
2．避免曝晒，贮存温度为5-35℃，低于0℃则产生冻胶而失效。
3．避免敞口长期与空气接触。
(临沂市供应CMP抛光液厂家)
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