供应电解抛光配方工艺技术专题/抛光加工装置类资料
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成都市

成都万宁达科技有限公司

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第  13  年
产品详情(成都市电解抛光配方工艺技术专题厂家)
关键字:一种超声电解复合抛光加工装置;

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光盘包含技术的目录如下(鉴于版面显示,我们仅列出前5项技术的摘要信息,更多信息将以光盘形式提供):
         技术编号                             技术名称
(编号:CC1001342-0023-0001) 一种电解抛光槽
[技术摘要] 本实用新型是关于一种电解抛光槽,包括槽体和设在所述槽体外侧的冷却机,该槽体内侧设有与该冷却机连通的冷却管。其还包括设在所述槽体外侧的气泵,该槽体内的底壁上设有与该气泵连通的导气管,该导气管上开设有导气孔。所述槽体数量为若干个并上下或左右分布,分别与所述冷却机和所述冷却机连通,可以加快冷却在生产过程中电解抛光液,促进电解抛光液的循环,提高了散热效率并使槽体内的电解抛光液的温度和浓度一致,节省了占地空间又提高了自然散热面积。因此,本实用新型可大规模连续生产、散热效率高。

(编号:CC1001342-0019-0002) 电解抛光液和其平坦化金属层的方法
[技术摘要] 本发明揭示一种含醇基添加剂的电解抛光液和其平坦化金属层的方法。所述电解抛光液包含一含醇基添加剂和一酸溶液。优选地,所述含醇基添加剂可为**、甲醇或乙醇,所述酸溶液包含磷酸和一有机酸添加剂,其中所述有机酸添加剂可为乙酸或柠檬酸。本发明利用所述含醇基添加剂在所述金属层表面形成一扩散抑制层以降低所述金属层的表面的抛光速率,但所述金属层的凹部和凸部在某浓度范围时都呈现相当程度的抛光抑制。在电解抛光液中添加有机酸添加剂会导致所述金属层的凸部和凹部有机酸浓度不同,因而使得凸部和凹部的抛光速率呈现更大差异。

(编号:CC1001342-0010-0003) 具有激光限定的电解抛光弱化线的反向作用破裂盘及形成该弱化线的方法
[技术摘要] 提供一种具有激光限定电解抛光弱化线凹槽的反向作用破裂盘,和在反向作用破裂盘上形成电解抛光弱化线凹槽以确保盘在反向时完全打开的方法。将破裂盘坯件预隆起、最终隆起、并然后设置一层保护层材料。使用激光来移除与隆起破裂盘的凹陷面上所要求弱化线凹槽对应的至少一部分保护层材料。然后该盘经受电解抛光操作以从破裂盘的经激光照射的区域移除金属,由此在盘上形成有光泽的抛光的弱化线凹槽并具有所要求构造和与材料厚度有关的预定深度。该电解抛光弱化线由由隔开的相对通道部分限定,所述隔开的相对通道部分由中心突出的冠状部分开,所述通道部分比所述冠状部深。具有电解抛光弱化线凹槽的盘的*裂/反向压力通过改变盘上的预隆起压力而可选择地控制。

(编号:CC1001342-0004-0004) 反转电流法的铝材电解抛光
[技术摘要] 反转电流法的铝材电解抛光是一种对铝材进行电化学抛光的方法,该方法是将供电解作用的电流采用反转电流即电流的方向为正、反交替交换变动,电流变换的频率为0.1—10赫兹,其中正向电流占一个周期的80—90%,反向电流占一个周期的5—20%,镀液是以纯碱为主的稀溶液,电流密度为每平方分米5—10安培,电解抛光时间为5—10分钟,这种抛光法节省大量的能源、减少污染和铝耗,减少环境污染,大幅度降低抛光成本。

(编号:CC1001342-0011-0005) 一种超声电解复合抛光加工装置
[技术摘要] 本发明所述超声电解复合抛光加工装置,包括至少一总控装置(4)、一超声加工机具总成(3、5、6、7)、一超声加工机具总成导向装置(2)、一超声加工机具总成导向装置的动力装置(1)、一电解加工液体控制装置(10)、一加工槽装置(9)、一工件夹具总成装置(12、13、14)、一工件夹具动力装置(15、16)。其工作方法的特点是:在加工过程中,在总控装置(4)的控制下,加工工件(11)能够垂直于工件主夹具主轴方向旋转,超声加工机具总成(3、5、6、7),做平行于工件主夹具主轴方向的运动;超声加工机具总成的加工工具头(6),能够沿着加工工件(11)平行于工件主夹具(12)主轴方向的形状轨迹线即时上下调整。

(编号:CC1001342-0025-0006) 一种电解抛光装置
(编号:CC1001342-0020-0007) 结合电化学加工与电解抛光的复合式*加工装置及方法
(编号:CC1001342-0014-0008) 红外光控恒流双喷电解抛光机
(编号:CC1001342-0022-0009) 立式电解机械便携抛光机
(编号:CC1001342-0012-0010) 半导体材料的电解抛光方法及装置
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(编号:CC1001342-0005-0011) 不锈钢设备动态电解复合抛光方法
2
(编号:CC1001342-0017-0012) 使用平面化方法和电解抛光相结合的方法形成半导体结构
8
(编号:CC1001342-0008-0013) 用于钛的电解抛光的电解液组合物及其使用方法
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(编号:CC1001342-0018-0014) 减小电解抛光工艺中的金属凹槽的虚拟结构
6
(编号:CC1001342-0013-0015) 磁力驱动旋喷电解抛光槽
6
(编号:CC1001342-0015-0016) 电解抛光组件以及对导电层执行电解抛光的方法
9
(编号:CC1001342-0021-0017) 电解机械卧式手提抛光机
2
(编号:CC1001342-0003-0018) 利用电解和/或超声小室进行酸洗和/或抛光的局部清洗机
3
(编号:CC1001342-0007-0019) 不锈钢丝网电解抛光处理工艺及专用设备
3
(编号:CC1001342-0026-0020) 电解抛光工具电极
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(编号:CC1001342-0002-0021) 铝电解抛光的方法和其应用
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(编号:CC1001342-0001-0022) 电解抛光方法
(编号:CC1001342-0009-0023) 用于电解抛光的电解液以及电解抛光方法
(编号:CC1001342-0016-0024) 电解抛光和/或电镀设备及方法
(编号:CC1001342-0024-0025) 电解抛光**仪
(编号:CC1001342-0006-0026) 容器内表面电解机械复合抛光工艺


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