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以下所有技术资料集成在一张光盘内，是PDF格式的电子图书（非视频或录像)，光盘自带浏览器，所有Windows电脑均可查看，可以快递光盘也可以通过QQ、旺旺或电子邮件传送。化工、材料、医药类的资料包括原材料的配方配比，制造工艺，质量标准和工艺流程等，机械、设备、装置类的资料包括详细的设计方案，设计原理，附带有设计的结构原理图纸和图解说明，所有资料均包括技术发明人的姓名、联系地址、权利要求等信息，是企业和个人了解市场，开发技术、生产产品不可多得的参考资料。
光盘包含技术的目录如下(鉴于版面显示，我们仅列出前5项技术的摘要信息，更多信息将以光盘形式提供)：
技术编号 技术名称
(编号:CC1001359-0027-0001) 加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机
[技术摘要] 一种加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机，由真空室(镀膜室)和抽气系统构成。真空室(镀膜室)包括室体、室门、位于室体内并固定在室体上盖的蒸发源、与蒸发源两电极连接的电源、位于室体内并与转动机构连接的工作架、室体内对称地设置的两个射频(RF)靶，射频靶通过与其配套的安装在室体壁上的用于冷却的出水管和进水管固定，出水管兼作射频靶的电极，与射频电源连接。此种镀膜机既能对汽车、摩托车灯具镀铝膜，又能对汽车、摩托车灯具镀等离子体聚合保护膜，有利于简化覆膜工艺，使生产规模化，稳定产品质量，所镀保护膜的产品具有防酸碱、防盐雾、防潮的性能。
(编号:CC1001359-0017-0002) 多用途蚌形双室离子镀膜机
[技术摘要] 本实用新型公开了一种多用途蚌形双室离子镀膜机，应用于表面等离子体气相沉积领域。其特征是，两个镀膜室分别由两部分组成，一部分是固定不动的共用体，它与真空机组相联，另一部分是可以开合的前门。在镀膜室的顶部分别安装柱状弧源或柱状磁控溅射靶，镀膜室壁上分别安装平面弧源或平面磁控溅射靶。根据需要可单独开启一种镀膜源镀单层金属膜或化合物膜，也可以开启任何一对柱状源和平面源镀多层膜或合金膜。
(编号:CC1001359-0026-0003) 真空离子镀膜机
[技术摘要] 本实用新型涉及一种可对大面积板材进行真空离子镀膜的设备，包括真空镀膜室，传动装置，密封门，真空机组，真空镀膜室包括第一镀膜区和设置在第一镀膜区左右两端并与第一镀膜区相通的左传动区和右传动区，在第一镀膜区内有多个离子**源，传动装置设置在左传动区和右传动区内。本实用新型一次抽真空可完成一次镀膜作业，且作业时间缩短，成品颜色丰富且一致性好，可对大面积板材进行镀膜作业，解决了背景技术中真空离子镀膜机彩板尺寸小、作业效率低、成品颜色一致性差的技术问题。
[技术摘要] 本实用新型是一种柱状靶等离子镀膜机。主要是采用在柱状靶与真空室之间通入低电压大电流电源，在一定真空条件下通入氩气或反应气体，引弧装置使引弧丝与柱靶侧面短时间接触，产生*花，使气体电离形起柱靶产生电弧，并环绕柱靶内磁场环绕柱靶侧面作斑点状加速旋转放电，电弧环并能随靶内磁场沿靶轴来回移动，使靶镀料金属气化蒸发，在工作架负偏压作用下离化的镀料离子在工件上成膜。加入不同的反应气体能作多种反应性离子镀。经**被镀工件膜层均匀牢固。
[技术摘要] 本实用新型是一种旋转磁控柱状多弧源－平面磁控溅射源离子镀膜机。属于等离子体表面气相沉积技术。在镀膜室中央安装旋转磁控柱状多弧源，在镀膜室的侧壁安装平面磁控溅射源。主要由镀膜室、磁控溅射电源、平面磁控溅射源、工件转架、旋转磁控柱状多弧源、弧源电源、进气系统、烘烤加热源、工件偏压电源、真空系统、引弧针系统组成。可以沉积多层膜、合金膜，尤其在镀氮化钛加Ｋ金复合精饰层时，具有结构简单、操作简便、装载量大、Ｋ金色泽容易调整、成本低等优点。
(编号:CC1001359-0009-0020) 双端磁控溅射离子镀膜机
(编号:CC1001359-0001-0032) 一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器
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光盘包含技术的目录如下(鉴于版面显示，我们仅列出前5项技术的摘要信息，更多信息将以光盘形式提供)：
技术编号 技术名称
(编号:CC1001359-0027-0001) 加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机
[技术摘要] 一种加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机，由真空室(镀膜室)和抽气系统构成。真空室(镀膜室)包括室体、室门、位于室体内并固定在室体上盖的蒸发源、与蒸发源两电极连接的电源、位于室体内并与转动机构连接的工作架、室体内对称地设置的两个射频(RF)靶，射频靶通过与其配套的安装在室体壁上的用于冷却的出水管和进水管固定，出水管兼作射频靶的电极，与射频电源连接。此种镀膜机既能对汽车、摩托车灯具镀铝膜，又能对汽车、摩托车灯具镀等离子体聚合保护膜，有利于简化覆膜工艺，使生产规模化，稳定产品质量，所镀保护膜的产品具有防酸碱、防盐雾、防潮的性能。
(编号:CC1001359-0017-0002) 多用途蚌形双室离子镀膜机
[技术摘要] 本实用新型公开了一种多用途蚌形双室离子镀膜机，应用于表面等离子体气相沉积领域。其特征是，两个镀膜室分别由两部分组成，一部分是固定不动的共用体，它与真空机组相联，另一部分是可以开合的前门。在镀膜室的顶部分别安装柱状弧源或柱状磁控溅射靶，镀膜室壁上分别安装平面弧源或平面磁控溅射靶。根据需要可单独开启一种镀膜源镀单层金属膜或化合物膜，也可以开启任何一对柱状源和平面源镀多层膜或合金膜。
(编号:CC1001359-0026-0003) 真空离子镀膜机
[技术摘要] 本实用新型涉及一种可对大面积板材进行真空离子镀膜的设备，包括真空镀膜室，传动装置，密封门，真空机组，真空镀膜室包括第一镀膜区和设置在第一镀膜区左右两端并与第一镀膜区相通的左传动区和右传动区，在第一镀膜区内有多个离子**源，传动装置设置在左传动区和右传动区内。本实用新型一次抽真空可完成一次镀膜作业，且作业时间缩短，成品颜色丰富且一致性好，可对大面积板材进行镀膜作业，解决了背景技术中真空离子镀膜机彩板尺寸小、作业效率低、成品颜色一致性差的技术问题。
联
(编号:CC1001359-0008-0004) 柱状靶等离子镀膜机[技术摘要] 本实用新型是一种柱状靶等离子镀膜机。主要是采用在柱状靶与真空室之间通入低电压大电流电源，在一定真空条件下通入氩气或反应气体，引弧装置使引弧丝与柱靶侧面短时间接触，产生*花，使气体电离形起柱靶产生电弧，并环绕柱靶内磁场环绕柱靶侧面作斑点状加速旋转放电，电弧环并能随靶内磁场沿靶轴来回移动，使靶镀料金属气化蒸发，在工作架负偏压作用下离化的镀料离子在工件上成膜。加入不同的反应气体能作多种反应性离子镀。经**被镀工件膜层均匀牢固。
系
(编号:CC1001359-0011-0005) 旋转磁控柱状多弧源-平面磁控溅射源离子镀膜机[技术摘要] 本实用新型是一种旋转磁控柱状多弧源－平面磁控溅射源离子镀膜机。属于等离子体表面气相沉积技术。在镀膜室中央安装旋转磁控柱状多弧源，在镀膜室的侧壁安装平面磁控溅射源。主要由镀膜室、磁控溅射电源、平面磁控溅射源、工件转架、旋转磁控柱状多弧源、弧源电源、进气系统、烘烤加热源、工件偏压电源、真空系统、引弧针系统组成。可以沉积多层膜、合金膜，尤其在镀氮化钛加Ｋ金复合精饰层时，具有结构简单、操作简便、装载量大、Ｋ金色泽容易调整、成本低等优点。
电
(编号:CC1001359-0018-0006) 等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机话
(编号:CC1001359-0013-0007) 旋转磁控柱状弧源─平面弧源多弧离子镀膜机0
(编号:CC1001359-0024-0008) 自动镀膜多弧离子镀膜机2
(编号:CC1001359-0030-0009) 一种用于光学辅助镀膜机中离子源的阳极8
(编号:CC1001359-0003-0010) 钛铝涂层用多弧离子镀膜机|
(编号:CC1001359-0032-0011) 一种等离子体蒸发镀膜机6
(编号:CC1001359-0015-0012) 旋转磁控柱状弧源多弧离子镀膜机6
(编号:CC1001359-0028-0013) 平面离子源增强沉积镀膜机9
(编号:CC1001359-0031-0014) *线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机2
(编号:CC1001359-0025-0015) 纳米离子低温镀制金刚石膜镀膜机3
(编号:CC1001359-0010-0016) 多弧型离子镀膜机3
(编号:CC1001359-0022-0017) 汽轮机低压末级叶片表面复合离子镀膜方法1
(编号:CC1001359-0021-0018) 加有离子源的有机蒸发镀膜装置6
(编号:CC1001359-0019-0019) 蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机(编号:CC1001359-0009-0020) 双端磁控溅射离子镀膜机
1
(编号:CC1001359-0006-0021) 多弧型离子镀膜机8
(编号:CC1001359-0023-0022) 一种配置气体离子源的真空离子镀膜机9
(编号:CC1001359-0007-0023) 等离子镀膜机点弧自控装置8
(编号:CC1001359-0002-0024) 分立双室离子镀膜机2
(编号:CC1001359-0020-0025) 离子束溅射镀膜机1
(编号:CC1001359-0005-0026) 多蒸发离化源离子镀膜机9
(编号:CC1001359-0016-0027) 制备金属和陶瓷复合膜的真空离子镀膜机0
(编号:CC1001359-0029-0028) 双面一次成膜真空离子溅镀机2
(编号:CC1001359-0012-0029) 多弧型离子镀膜机3
(编号:CC1001359-0004-0030) 多功能离子镀膜机0
(编号:CC1001359-0014-0031) 高温立式双端离子镀膜机(编号:CC1001359-0001-0032) 一种真空多弧离子镀膜机智能一体化控制器
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