等离子表面处理机

等离子体（Plasma）是一种由自由电子和带电离子为主要成分的物质形态，广泛存在于宇宙中，常被视为是物质的第四态，被称为等离子态，或者“超气态”，也称“电浆体”。等离子体具有很高的电导率，与电磁场存在极强的耦合作用。等离子体是由克鲁克斯在1879年发现的，1928年美国科学家欧文·朗缪尔和汤克斯（Tonks）首次将“等离子体”（plasma）一词引入物理学，用来描述气体放电管里的物质形态^[1]。严格来说，等离子体是具有高势能动能的气体团，等离子体的总带电量仍是中性，借由电场或磁场的高动能将外层的电子击出，结果电子已不再被束缚于原子核，而成为高势能高动能的自由电子。

等离子体表面处理具有如下作用：蚀刻作用；清洁作用；活化作用；消融作用；交联作用。

 【清洁作用Cleaning】

? 清洁工作是去除弱键

? 清除典型-CH基有机沾污物。

只对材料表面起作用而对内部无任何侵蚀，得到超高洁净表面为下道工序做好准备。

【活化作用Activation】

?活化作用是使表面形成羰（tang）基(=CO) Carboxyl羧基 (-COOH) Hydroxyl羟（基）(-OH)三种基团。

? 这种基团具有稳定的功能对粘接亲水有积极作用来代替弱键。

? 主要是增加了表面能量。对聚合物来讲由于表面能量低致使粘接性能不好。

【 蚀刻作用Etching】

   蚀刻作用产品中高分子材料[C、H、O、N] 与等离子体[O+OF+CF3+CO+F + ……]发生化学反应从而达到清除残留污染物。

【交联作用Cross linking】

? 交联作用是在惰性气体中进行。 单键被打断而重新组合，形成双键或三键或者形成一个自由基和另一键组合的键。

【消融作用Ablation 】