共聚物成膜树脂生产配方技术专题资料光盘
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成都市
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光盘包含技术的目录如下(鉴于版面显示，我们仅列出前5项技术的摘要信息，更多信息将以光盘形式提供)：
序号 技术名称
1 用于光刻胶的主体成膜树脂及其制备方法和应用
[技术摘要] 一种用于光刻胶的主体成膜树脂，其制备方法为：1.将单体N-取代**丙烯酰胺和单体N-取代马来酰亚胺溶于溶剂制成均相溶液；2.在该溶液中加入**基聚合引发剂，在一定温度下聚合，然后倒入沉淀剂中析出聚合物沉淀，抽滤干燥，得粗产物；3.将该粗产物重新溶于溶剂再倒入沉淀剂中沉淀，抽滤干燥即得本发明的共聚物树脂。其应用方法为：将共聚物树脂与感光剂、添加剂及溶剂复配后，经超滤膜过滤即制成本发明的光刻胶。该光刻胶具有分辨率高、与基体材料附着力好、抗干蚀刻能力强外，还具有很好的耐高温性能。
2 光刻胶成膜树脂制备中的聚合物选择水解方法
[技术摘要] 一种光刻胶成膜树脂制备中的聚合物选择水解方法，采用聚对乙酰氧基苯乙烯及其共聚物为原料，以醇、醚、烃类溶剂为介质，在20～150℃温度范围内，在催化剂帮助下进行选择水解反应，来制备聚对羟基苯乙烯及其共聚物，其特征在于：催化剂为高分子催化剂或高分子载体催化剂；所述高分子催化剂为聚苯乙烯磺酸型强酸性离子交换树脂或季胺碱型强碱性离子交换树脂；所述高分子载体催化剂为高分子载体路易斯酸(Lewis酸)催化剂。本发明采用合适有效的催化剂通过选择性水解或醇解反应，来制备光刻胶成膜树脂——聚对羟基苯乙烯及其共聚物，其特点是工艺简单、转化率可达98％以上、选择性，从而达到更好的效果。
3 成膜树脂和含该树脂的护发产品
[技术摘要] 本发明提供含有由下列成分构成的共聚物的成膜树脂：（a）３０—８０％（重量）式（１）代表的（**）丙烯酰胺单体，（b）２—５０％（重量）式（２）代表的（**）丙烯酰胺单体，（c）０—３０％（重量）式（３）代表的（**）丙烯酸酯单体，和（d）０—４０％（重量）式（４）代表的（**）丙烯酸酯单体；和含此树脂的护发产品。此树脂即使在高湿度下亦能长时间地保持发型，并具有极佳的洗发剂可洗性。若将其用作头发造型用树脂，则能获得长时间且良好的涂层效果。所述式（１）、（２）、（３）和（４）如上，式中取代基定义见说明书。
[技术摘要] 一种含硅偶联剂的共聚物成膜树脂及其193nm光刻胶，本发明在原来以**丙烯酸异冰片酯、**丙烯酸叔丁酯、**丙烯酸甲酯和**丙烯酸四种**丙烯酸及其酯类共聚单体中引入了含硅的丙烯酸酯类偶联剂，进行共聚制备成一种新的成膜树脂。这种新的成膜树脂由于含硅丙烯酸酯类偶联剂单元的作用，增加了光刻胶与硅片之间的粘结性能。同时，也改善了抗干刻蚀的性能。
[技术摘要] 一种含硅偶联剂的共聚物成膜树脂以及利用该成膜树脂配制的用于深紫外(193nm)波段曝光的正性化学增幅型光刻胶组合物。本发明采用含硅丙烯酸酯类偶联剂和丙烯酸酯类及环烷烯烃的共聚物成膜树脂，用在193nm波段处吸收*弱，偶联剂易于和其它单体共聚合。光刻胶由于含硅偶联剂单元作用，有效提高了光刻胶与基材硅片的粘附性，减少了未曝光区的膜厚损失，增加了曝光区在碱性显影液中的溶解性，同时，也改善了光刻胶胶膜的抗干刻蚀性能。进一步说，由于含硅偶联剂单元在成膜树脂中的存在，其硅片上的光刻胶胶膜在光刻过程中，在曝光区，含硅丙烯酸酯偶联剂中存在的Si-OR基团在光致酸产生的酸作用下形成的Si-OH基团将进一步增加胶膜在显影液中的溶解性，从而增加了曝光区与非曝光区对比度，而形成更加清晰的光刻图形。
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值班电话：18982190230/15328023369 （周一至周六18：00以后，周日及法定节假日全天）
以上所有技术资料集成在一张光盘内，是PDF格式的电子图书（非视频或录像)，光盘自带浏览器，所有Windows电脑均可查看，可以快递光盘也可以通过QQ、旺旺或电子邮件传送。化工、材料、医药类的资料包括原材料的配方配比，制造工艺，质量标准和工艺流程等，机械、设备、装置类的资料包括详细的设计方案，设计原理，附带有设计的结构原理图纸和图解说明，所有资料均包括技术发明人的姓名、联系地址、权利要求等信息，是企业和个人了解市场，开发技术、生产产品不可多得的参考资料。
(成都市共聚物成膜树脂厂家)
共聚物成膜树脂生产配方技术专题资料光盘
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序号 技术名称
1 用于光刻胶的主体成膜树脂及其制备方法和应用
[技术摘要] 一种用于光刻胶的主体成膜树脂，其制备方法为：1.将单体N-取代**丙烯酰胺和单体N-取代马来酰亚胺溶于溶剂制成均相溶液；2.在该溶液中加入**基聚合引发剂，在一定温度下聚合，然后倒入沉淀剂中析出聚合物沉淀，抽滤干燥，得粗产物；3.将该粗产物重新溶于溶剂再倒入沉淀剂中沉淀，抽滤干燥即得本发明的共聚物树脂。其应用方法为：将共聚物树脂与感光剂、添加剂及溶剂复配后，经超滤膜过滤即制成本发明的光刻胶。该光刻胶具有分辨率高、与基体材料附着力好、抗干蚀刻能力强外，还具有很好的耐高温性能。
2 光刻胶成膜树脂制备中的聚合物选择水解方法
[技术摘要] 一种光刻胶成膜树脂制备中的聚合物选择水解方法，采用聚对乙酰氧基苯乙烯及其共聚物为原料，以醇、醚、烃类溶剂为介质，在20～150℃温度范围内，在催化剂帮助下进行选择水解反应，来制备聚对羟基苯乙烯及其共聚物，其特征在于：催化剂为高分子催化剂或高分子载体催化剂；所述高分子催化剂为聚苯乙烯磺酸型强酸性离子交换树脂或季胺碱型强碱性离子交换树脂；所述高分子载体催化剂为高分子载体路易斯酸(Lewis酸)催化剂。本发明采用合适有效的催化剂通过选择性水解或醇解反应，来制备光刻胶成膜树脂——聚对羟基苯乙烯及其共聚物，其特点是工艺简单、转化率可达98％以上、选择性，从而达到更好的效果。
3 成膜树脂和含该树脂的护发产品
[技术摘要] 本发明提供含有由下列成分构成的共聚物的成膜树脂：（a）３０—８０％（重量）式（１）代表的（**）丙烯酰胺单体，（b）２—５０％（重量）式（２）代表的（**）丙烯酰胺单体，（c）０—３０％（重量）式（３）代表的（**）丙烯酸酯单体，和（d）０—４０％（重量）式（４）代表的（**）丙烯酸酯单体；和含此树脂的护发产品。此树脂即使在高湿度下亦能长时间地保持发型，并具有极佳的洗发剂可洗性。若将其用作头发造型用树脂，则能获得长时间且良好的涂层效果。所述式（１）、（２）、（３）和（４）如上，式中取代基定义见说明书。
资
4 含硅偶联剂的共聚物成膜树脂及其193nm光刻胶[技术摘要] 一种含硅偶联剂的共聚物成膜树脂及其193nm光刻胶，本发明在原来以**丙烯酸异冰片酯、**丙烯酸叔丁酯、**丙烯酸甲酯和**丙烯酸四种**丙烯酸及其酯类共聚单体中引入了含硅的丙烯酸酯类偶联剂，进行共聚制备成一种新的成膜树脂。这种新的成膜树脂由于含硅丙烯酸酯类偶联剂单元的作用，增加了光刻胶与硅片之间的粘结性能。同时，也改善了抗干刻蚀的性能。
料
5 含硅偶联剂的193nm光刻胶及其成膜树脂[技术摘要] 一种含硅偶联剂的共聚物成膜树脂以及利用该成膜树脂配制的用于深紫外(193nm)波段曝光的正性化学增幅型光刻胶组合物。本发明采用含硅丙烯酸酯类偶联剂和丙烯酸酯类及环烷烯烃的共聚物成膜树脂，用在193nm波段处吸收*弱，偶联剂易于和其它单体共聚合。光刻胶由于含硅偶联剂单元作用，有效提高了光刻胶与基材硅片的粘附性，减少了未曝光区的膜厚损失，增加了曝光区在碱性显影液中的溶解性，同时，也改善了光刻胶胶膜的抗干刻蚀性能。进一步说，由于含硅偶联剂单元在成膜树脂中的存在，其硅片上的光刻胶胶膜在光刻过程中，在曝光区，含硅丙烯酸酯偶联剂中存在的Si-OR基团在光致酸产生的酸作用下形成的Si-OH基团将进一步增加胶膜在显影液中的溶解性，从而增加了曝光区与非曝光区对比度，而形成更加清晰的光刻图形。
来
6 含有乙烯－降冰片烯共聚物的用作改善成膜中韧性和加工性的树脂的LLDPE共混物源
7 用硅氧烷聚合物和成膜树脂结构化的化妆品组合物W
8 含硅偶联剂共聚物成膜树脂及其有机防反射涂膜N
9 金属交联分子成膜双组分水性水器漆用树脂的制备方法D
10 含苯并噁嗪结构的共聚物成膜树脂及其深紫外负性化学增幅型光刻胶订购本套资料光盘请记录此编号：CC1071463
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