简述真空镀膜加工与光学镀膜加工之间的区别
真空镀膜加工主要用于产品表面装饰镀,改变产品外观,光学镀膜加工目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。 两者之间概念上的区别:真空镀膜加工主要是指高真空条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件表面形成薄膜。而光学镀膜加工是指光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。
原理的区别:真空镀膜加工是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术。光学镀膜是借助真空溅射的方式镀制薄膜,控制基板的入射光束反射率与透过率。
电镀的目的是在基材上镀上金属镀层,改变基材表面性质或尺寸。电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、润滑性、耐热性、和表面美观。
利用电解作用在机械制品上沉积出附着良好的、但性能和基体材料不同的金属覆层的技术。电镀层比热浸层均匀,一般都较薄,扬州塑胶件真空电镀,从几个微米到几十微米不等。
通过电镀,可以在机械制品上获得装饰保护性和各种功能性的表面层,还可以修复磨损和加工失误的工件。镀层大多是单一金属或合金,如锌、镉、金或黄铜、青铜等;也有弥散层,专业塑胶件真空电镀,如镍-碳化硅、镍-氟化石墨等;还有覆合层,塑胶件真空电镀价格,如钢上的铜-镍-铬层、钢上的银-铟层等。电镀的基体材料除铁基的铸铁、钢和不锈钢外,还有非铁金属,如ABS塑料、聚砜和酚醛塑料,但塑料电镀前,塑胶件真空电镀厂,必须经过特殊的活化和敏化处理。
真空电镀厂介绍影响电镀质量的因素
真空电镀厂介绍,影响电镀质量的因素很多﹐包括镀液的各种成分以及各种电镀工艺参数。利用电解池原理在机械制品上沉积出附着良好的、但性能和基体材料不同的金属覆层的技术。下面就其中某些主要因素进行讨论。=
pH值的影响
镀液中的pH值可以影响氢的放电电位﹐碱性夹杂物的沉淀﹐还可以影响络合物或水化物的组成以及添加剂的吸附程度。通过加入缓冲剂可以将pH值稳定在一定范围。
添加剂的影响
真空电镀厂阐述,镀液中的光亮剂﹐整平剂﹐润湿剂等添加剂能明显改善镀层组织。
电流密度的影响
任何电镀都必须有一个能产生正常镀层的电流密度范围。当电流密度过低时﹐阴极极化作用较小﹐镀层桔晶粗大﹐甚至没有镀层。随着电流密度的增加﹐阴极极化作用随着增加﹐镀层晶粒越来越细。
搅拌的影响
真空电镀厂概述,搅拌可降低阴极极化﹐使晶粒变粗﹐但可提高电流密度﹐从而提高生产率。此外搅拌还可增强整平剂的效果。